光刻胶是微电子行业的工艺流程中设计到微细图形加工的关键材料之一。例如集成电路的生产中就使用了光刻胶，印刷工业也是光刻胶的另一重要应用领域，同时还有模拟半导体、发光二极管、太阳能光伏、生物芯片、光电子器件/光子器件等领域。光刻胶的生产使用技术复杂，品种较多，衡量标准也很多，光刻胶的比重是衡量光刻胶密度的重要指标，较大的比重意味着光刻胶中固体的含量更多，粘滞性越高、流动性更差。越小的粘滞性就越有均匀的光刻胶厚度。

光刻胶生产有着严格的洁净度要求，颇勒过滤结合产品过滤实际，各种污染物，金属离子的析出要求，制定了这类特殊产品的过滤解决方案，确保了产品的质量。